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Die Atomlagenabscheidung (ALD) ist eine Dünnschichttechnologie, die sich in den letzten zwei Jahrzehnten schnell von einer Nischentechnologie zu einer etablierten Methode entwickelt hat. Sie hat sich als Schlüsseltechnologie für die Oberflächenmodifikation und die Herstellung komplexer nanostrukturierter Materialien erwiesen. In diesem Fortschrittsbericht wird nach einer kurzen Einführung in ALD und dessen Chemie die Vielseitigkeit der Technik für die Herstellung neuartiger funktioneller Materialien diskutiert. Ausgewählte Beispiele, die sich auf die Verwendung zur Konstruktion von Nanostrukturen mit dem Ziel von Anwendungen in der Energieumwandlung und -speicherung sowie auf Umweltfragen konzentrieren, werden besprochen. Schließlich werden auch die Herausforderungen, denen sich ALD jetzt in Bezug auf die Materialherstellung und -verarbeitung gegenübersieht, angesprochen.
Marichy et al. (Thu,) untersuchten diese Frage.