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我们测量了 Si 金属-氧化物-半导体场效应晶体管中电子反型层在低温(50 mK)和低电场(0. 1 V/m)下的电阻。在较低的 R_ 值下,我们观察到电阻对温度和外加电场均表现出对数依赖性,且仅随 R_ 发生缩放。在 R_10 k 时,我们观察到逐渐转变为指数依赖性。这种对数依赖性在定性上与当前的局域化理论一致,但在定量上并不一致。
Bishop et al. (Mon,) 研究了这一问题。
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